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產(chǎn)品詳情
  • 產(chǎn)品名稱:LGA-4100激光過程氣體分析系統(tǒng)

  • 產(chǎn)品型號:
  • 產(chǎn)品廠商:其它品牌
  • 產(chǎn)品文檔:
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簡單介紹:
LGA-4100激光過程氣體分析系統(tǒng) LGA-4100激光過程氣體分析系統(tǒng)由上海美盛自動化設備有限公司供應 ■ 系統(tǒng)特點 ●激光光譜分析,靈敏度高,可實現(xiàn)痕量(ppm)級測量 ●原位(In-Situ)測量,精度高,響應速度快 ●一體化設計,迄今為止集成度*高,可靠性高 ●模塊化設計,可現(xiàn)場更換所有功能模塊 ●智能化程度高,操作、維護方便
詳情介紹:
LGA-4100激光過程氣體分析系統(tǒng)
LGA-4100激光過程氣體分析系統(tǒng)由上海美盛自動化設備有限公司供應
■ 系統(tǒng)特點
●激光光譜分析,靈敏度高,可實現(xiàn)痕量(ppm)級測量
●原位(In-Situ)測量,精度高,響應速度快
●一體化設計,迄今為止集成度*高,可靠性高
●模塊化設計,可現(xiàn)場更換所有功能模塊
●智能化程度高,操作、維護方便





技術原理
采用國內(nèi)獨有、國際**的半導體激光吸收光譜技術DLAS,具體來說,半導體激光器發(fā)射出的特定波長的激光束穿過被測氣體時,被測氣體對激光束進行吸收導致激光強度產(chǎn)生衰減,激光強度的衰減與被測氣體含量成正比,因此,通過測量激光強度衰減信息就可以分析獲得被測氣體的濃度。

DLAS獨特的氣體分析技術解決了困擾過程氣體分析的三大問題,即背景氣體的交叉干擾、粉塵和視窗污染對測量的干擾以及被測氣體環(huán)境參數(shù)變化的影響,從而避免了采樣預處理系統(tǒng),能夠?qū)崿F(xiàn)現(xiàn)場在線分析測量。




單線光譜不受背景氣體交叉干擾的影響
激光頻率掃描自動修正粉塵和視窗污染對測量濃度的影響
譜線展寬自動修正消除氣體環(huán)境參數(shù)(溫度和壓力等)變化的影響

系統(tǒng)介紹
LGA-4100激光過程氣體分析系統(tǒng)是聚光科技結合多年的激光氣體分析產(chǎn)品開發(fā)和應用經(jīng)驗,集成半導體激光吸收光譜、激光器波長鎖定、藍牙無線通訊等多項**技術,開發(fā)出的*新一代過程氣體分析產(chǎn)品。
 
LGA-4100采用原位(In-Situ)測量方式,特別適合HF、HClNH3等容易被采樣方式中預處理單元吸附的氣體的測量。



系統(tǒng)組成
LGA-4100系統(tǒng)的測量探頭由發(fā)射單元和接收單元組成,具備了光譜分析、人機交互、正壓控制、數(shù)據(jù)通訊等多項功能,極大的簡化了現(xiàn)場安裝和維護過程。









發(fā)射單元:半導體激光器、人機界面(LCD與鍵盤)、中央控制和接口電路等
接收單元:光電傳感器、傳感信號處理電路等
可選部件:藍牙通訊模塊、吹掃氣過濾/傳感模塊、正壓防爆控制模塊等


 
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